At earlier technology nodes, when features were larger, a greater range in variation in etch depth, line or space width, or profile angle could be accommodated without affecting device performance. Similarly, occasional particles remaining on feature surfaces did not jeopardize device reliability. At the 1x/10nm node, however, the slightest differences in etch depth, line or space width, or profile angle can be fatal flaws in chip manufacture. And defect-free surfaces are equally essential.
As semiconductor scaling has continued, increasingly rigorous requirements for precision and uniformity in chip fabrication have propelled the first comprehensive redesign of the silicon etch chamber in over a decade. The resulting Applied Centris Sym3 system delivers world-class cross-wafer uniformity with unprecedented within-chip feature control in critical etch applications for high-volume manufacturing at the 1x/10nm node and beyond.
Choisie par Qualité Habitation comme l’une des plus belles maisons du Québec l’Actuel est idéale pour les gens qui aiment recevoir ou se retrouver en famille. Son rez-de-chaussée à aire ouverte offre une cuisine avec un coin bistro. À l’étage, il y a deux chambres avec de grands garde-robes, une salle de bain ainsi qu’une salle de lavage. Sans oublier sa grande salle de séjour qui vous surprendra. Le design unique de ce modèle vous charmera à coup sûr!
Le patrimoine architectural de Québec comprend l'ensemble des bâtiments de l'Assemblée nationale qui ont été érigés sur la colline Parlementaire à partir de 1877. On y retrouve deux styles architecturaux, soit le style Second Empire pour l'Hôtel du Parlement et l'architecture Beaux-Arts pour les autres édifices. La Citadelle de Québec, construite entre 1820 et 1831, le Château Frontenac, bâti entre 1892 et 1893, et la Terrasse Dufferin font également partie du site patrimonial du Vieux-Québec.
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